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【報(bào)告大綱】 第一章濺射靶材產(chǎn)業(yè)相關(guān)概述 第一節(jié)濺射靶材闡述 一、磁控濺射原理 二、磁控濺射鍍膜靶材 第二節(jié)高純高密度建設(shè)
【報(bào)告大綱】 第一章2015-2018年中國濺射靶材行業(yè)總概 第一節(jié)2015-2018年中國濺射靶材行業(yè)發(fā)展概述 第二節(jié)2015-2018年中國濺射
隨著我國經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展、人們生活水平的不斷提高，人們的消費(fèi)觀念和消費(fèi)水平也有了很大的轉(zhuǎn)變與提
濺射靶材的制備技術(shù)方法按生產(chǎn)工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類。在靶材制備過程中，除嚴(yán)格控制材料純度
薄膜制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。PVD技術(shù)指在真空條
一、跨國企業(yè)占強(qiáng)勢地位，主導(dǎo)產(chǎn)業(yè)發(fā)展 全球半導(dǎo)體工業(yè)的
超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和
濺射靶材是目前市場應(yīng)用量最大的PVD鍍膜材料，下游應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，如平板顯示器、半導(dǎo)體、太陽能電池、光磁
一、跨國企業(yè)占強(qiáng)勢地位，主導(dǎo)產(chǎn)業(yè)發(fā)展 全球半導(dǎo)體工業(yè)的區(qū)域
超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和
濺射靶材是目前市場應(yīng)用量最大的PVD鍍膜材料，下游應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，如平板顯示器、半導(dǎo)體、太陽能電池、光磁
濺射靶材的制備技術(shù)方法按生產(chǎn)工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類。在靶材制備過程中，除嚴(yán)格控制材料純度
薄膜制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。PVD技術(shù)指在真空條件下采
根據(jù)統(tǒng)計(jì)，2015年全球半導(dǎo)體材料銷售額為435億美元，其中晶圓制造材料銷售額為242億美元，封裝材料為1
化學(xué)純度是影響薄膜材料性能的關(guān)鍵因素，高純金屬原材料是靶材生產(chǎn)制造的基矗高純金屬提純分為化學(xué)提純和物理提
